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2019-2020年度ARTCLOUD(中国)SAP艺术大奖特展

日期:
2020年8月30日 - 2020年9月30日以往展览
开幕:
2020年8月30日
空间:
深圳市宝安区松福大道与107国道交汇处 国际艺展中心·iADC设计博物馆四层

展览简介

艺术家:

首届2019/2020年度ARTCLOUD(中国)SAP艺术大奖,共征集了雕塑及装置类、绘画类、视频及短片类、摄影类740件,其中有效参评作品635件。评选出了2019/2020年度中国SAP艺术大奖的33个新锐艺术家以及137位入围艺术家们的作品。受到各界人士的支持与关注,在2020年8月30日至2020年9月30日由ARTCLOUD发起,在ARTCLOUD全球原创艺术中心举办艺术家联展“2019-2020年度ARTCLOUD(中国)SAP艺术大奖特展”。

与此同时2020/2021年SAP艺术大奖报名通道也已开启,我们期待更多的青年艺术家加入,推动当代青年艺术家的发展,使艺术家的“标志性风格”可以得到更多的关注与发展机会。

展览

前言

SAP艺术大奖全名The Signature Are Prize是由伊泽贝尔·波尚和埃莉诺·奥利莎共同于2006年创办于英国,至今已有14年历史。

2019年,SAP艺术大奖正式进入中国,授权ARTCLOUD独家运营。挖掘更多有“标志性风格”的年轻艺术家,也让全球范围内更多的藏家与喜爱艺术的人了解中国新兴的艺术,让中国青年艺术家在国际上得到更多推广和关注。

“ARTCLOUD(中国)SAP艺术大奖特展”集中展示了2019/2020年度中国SAP艺术大奖的33个新锐艺术家以及10个入围艺术家们的作品。此次展览内容涵盖面广,观念大胆创新,展览通过青年艺术家与时俱进、多维度的视角来传达信息,使当代艺术成为在此时此刻的表达。

此次展览旨在挖掘当代最具艺术潜力及最具标志性风格的青年艺术家,希望凭借艺术展览的力量,推动中国青年艺术家在世界范围内的整体影响力,帮助青年艺术家展示和推广。

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